SONOSYS® offre soluzioni nel campo della pulizia ad ultrasuoni e megasonic per varie applicazioni. L'attenzione si concentra su frequenze più alte tra 400 kHz e 5 MHz per pulire le particelle più piccole e lo sporco fino alla gamma dei nanometri. I prodotti a unltrasuoni sono stati sviluppati internamente e vanno da generatori e piastre per trasduttori con ceramiche piezoelettriche brevettate a trasduttori ad immersione e ugelli singoli e doppi. Le soluzioni soddisfano i massimi requisiti di qualità e affidabilità nei settori della tecnologia dei semiconduttori, MEMS e LIGA. L'attenzione è sempre rivolta alle esigenze e alla soddisfazione del cliente. Fedele al motto dell'azienda: „Mastering nanoClean together“ analizza le preoccupazioni dei clienti insieme al fine di ottenere i migliori risultati di pulizia. Nei 25 anni di attività sul mercato, sono stati consegnati oltre 4.500 sistemi e numerosi clienti noti nei settori dei semiconduttori e dei MEMS sono stati serviti in tutto il mondo.

Siti web dell'azienda

  • Sito principale

Informazioni complementari

Video

Dati numerici significativi

  • 11 – 50
    Numero Dipendenti

Organizzazione

  • Anno di creazione 1995
  • Tipologia aziendale Tipologia aziendale Sede legale, Casa madre
  • Attività principale Attività principale Fabbricante/ Produttore

Mercati e zone di scambio

Bacino clientela

Regionale
Nazionale
Europeo
Internazionale
zona coperta
zona non coperta

Informazioni commerciali

Incoterms

Modalità di pagamento

Banche

Ambito di attività

Immagini postate da questa azienda

  • Face-To-Face Transducer Frequenz 400 kHz / 1 MHz
  • SONOSYS® Megasonic systems with slot nozzle / frequency 1 MHz
  • Diving transducer

Parole chiave associate a questa azienda

  • Pulizia industriale
  • Megasonic
  • Megaultrasuoni
  • Wafer cleaning
  • Pulizia a megaultrasuoni
  • pulizia ad ultrasuoni
  • Atomizzatore - nebulizzatore
  • Nebulizzatore - atomizzatore
  • Processo a banco bagnato
  • Processi a banco bagnato
  • Pulizia di microstrutture
  • Nanoclean
  • Pulizia di nanoparticelle
  • Semiconductor equipment
  • MEMS cleaning
  • Pulizia delicata
  • Pulizia fine
  • Ultrasonic
  • Microclean
  • Tecnologia LIGA
  • Pulizia di strutture sensibili
  • Trasduttori sommergibili
  • Piastra trasduttore
  • Ugello singolo
  • Vasi ultrasuoni
  • Damage free cleaning
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